[实用新型]连续式平面磁控溅射镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种连续式平面磁控溅射镀膜设备，具有顺序排列连接的进片室、前过渡室、镀膜室、后过渡室和出片室，进片室和前过渡室、前过渡室和镀膜室、镀膜室和后过渡室以及后过渡室和出片室之间分别设置有隔离阀门，进片室和出片室上分别管道连接有第一真空机组，前过渡室和后过渡室上分别管道连接有第二真空机组，镀膜室上管道连接有第三真空机组。本实用新型可按工艺要求，分别在玻璃上镀上增透介质层和导电层，同时选用的不同真空机组以满足镀膜过程中对真空度的不同要求，从而确保镀膜过程的一致性、连续性和可控性以及镀膜层的均匀，保证了触摸屏用导电玻璃的质量，满足了大批量生产的要求。

主权项

1.一种连续式平面磁控溅射镀膜设备，其特征是：具有顺序排列连接的进片室(1)、前过渡室(2)、镀膜室(3)、后过渡室(4)和出片室(5)，进片室(1)和前过渡室(2)、前过渡室(2)和镀膜室(3)、镀膜室(3)和后过渡室(4)以及后过渡室(4)和出片室(5)之间分别设置有隔离阀门(6)，进片室(1)和出片室(5)上分别管道连接有第一真空机组(7)，前过渡室(2)和后过渡室(4)上分别管道连接有第二真空机组(8)，镀膜室(3)上管道连接有第三真空机组(9)。