[实用新型]溅镀机构以及包含其的溅镀装置无效
申请号: | 200920268882.4 | 申请日: | 2009-11-05 |
公开(公告)号: | CN201530861U | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
发明(设计)人: | 林伟德;杨宏河;孙湘平;张元铭;廖泯谚 | 申请(专利权)人: | 富临科技工程股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种溅镀机构以及包含有此溅镀机构的溅镀装置,溅镀机构包括:多数个电极靶材单元,配置于同一平面,每一电极靶材单元的同一侧配置有至少一第一磁场单元;以及多数个平移装置;其中,每一第一磁场单元独立配置有平移装置,且第一磁场单元包括有至少一磁石以及第一磁石支撑座,至少一磁石以及第一磁石支撑座互相连接。本实用新型的溅镀机构中,磁石滑动方式由传统中所有磁石组相连接改为可独立作动,可使磁场单元作用模式更具变化性,更提高溅镀成膜的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 机构 以及 包含 装置 | ||
【主权项】:
一种溅镀机构,其特征在于,包括:多数个电极靶材单元,配置于同一平面,该每一电极靶材单元的同一侧配置有至少一第一磁场单元;以及多数个平移装置;其中,该每一第一磁场单元独立配置有该平移装置,且该第一磁场单元包括有至少一磁石以及一第一磁石支撑座,该至少一磁石以及该第一磁石支撑座互相连接。
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