[实用新型]应用于单层绕线轨迹的分析装置有效
申请号: | 200920269438.4 | 申请日: | 2009-10-30 |
公开(公告)号: | CN201766061U | 公开(公告)日: | 2011-03-16 |
发明(设计)人: | 张宸峰;沈勤芳;邱显仕;林依洁;许天彰;张耀文;林忠纬;李柏纬 | 申请(专利权)人: | 新思科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/60 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘国伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本实用新型涉及一种应用于单层绕线轨迹的分析装置,其中所述的绕线轨迹是连接若干个连接单元,所述的装置包含一分类单元、一连接至所述分类单元的计算单元和一连接至所述分类单元与计算单元的判断单元。所述的分类单元是根据一虚拟四边形内的绕线轨迹进行分类,其中所述的虚拟四边形是以四个连接单元为顶点,且所述的虚拟四边形内不包含连接单元。所述的计算单元是根据所述的分类单元所提供的分类结果计算所述的绕线轨迹间的距离对应关系。所述的判断单元是根据所述的计算单元所提供的计算结果判断所述的绕线轨迹是否符合一绕线规则。 | ||
搜索关键词: | 应用于 单层 轨迹 分析 装置 | ||
【主权项】:
一种用以分析单层的绕线轨迹的装置,所述的绕线轨迹是连接若干个连接单元,其特征在于所述的装置包含:一分类单元,根据一虚拟四边形内的绕线轨迹进行分类,其中所述的虚拟四边形是以四个连接单元为顶点,且所述的虚拟四边形内不包含连接单元;一计算单元,连接至所述的分类单元;根据所述的分类单元所提供的分类结果计算所述的绕线轨迹间的距离对应关系;及一判断单元,连接至所述的分类单元及判断单元;根据所述的计算单元所提供的计算结果判断所述的绕线轨迹是否符合一绕线规则。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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