[发明专利]真空吸附嘴无效
| 申请号： | 200980102440.5 | 申请日： | 2009-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101911860A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 浜岛浩 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | H05K13/04 | 分类号： | H05K13/04;B25J15/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种可适应安装高速化及高密度化的真空吸附嘴。为了实现该目的，本发明的真空吸附嘴(1)具备真空吸附吸附物的吸附面(2)和与所述吸附面连通的吸引孔(3)，其特征在于，含有所述吸附面的前端部由陶瓷构成，所述陶瓷包含构成该陶瓷的主成分、具有比该主成分的平均晶粒直径大的平均晶粒直径的第二成分，在所述吸附面(2)上所述第二成分的晶粒比所述主成分的晶粒更加突出。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 吸附 | ||
【主权项】：
一种真空吸附嘴，具备真空吸附吸附物的吸附面和与所述吸附面连通的吸引孔，其特征在于，含有所述吸附面的前端部由陶瓷构成，所述陶瓷包含：构成该陶瓷的主成分、具有比该主成分的平均晶粒直径大的平均晶粒直径的第二成分，在所述吸附面上所述第二成分的晶粒比所述主成分的晶粒突出。
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