[发明专利]评估衬底的模型的方法、检查设备和光刻设备有效
| 申请号： | 200980109332.0 | 申请日： | 2009-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN101978255A | 公开（公告）日： | 2011-02-16 |
| 发明（设计）人： | A·J·登鲍埃夫;H·A·J·克瑞姆;M·A·范德克尔克豪夫;H·P·M·派勒曼斯;M·埃伯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47;G01N21/956;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提出了一种评估衬底的模型的方法。使用第一波长的辐射进行散射测量。之后改变辐射的波长，且进行另外的散射测量。如果散射测量在波长范围上是一致的，那么模型是足够准确的。然而，如果散射测量随着波长变化而变化，那么衬底的模型是不充分准确的。 | ||
| 搜索关键词： | 评估 衬底 模型 方法 检查 设备 光刻 | ||
【主权项】：
一种评估衬底的特征的模型的方法，所述方法包括步骤：使用具有已知辐射特性的辐射对所述衬底进行第一散射测量，所述辐射具有第一特性值；使用所述第一散射测量来确定所述衬底的所述特征的特性的值或第一残差；使用具有第二特性值的所述辐射进行第二散射测量；使用所述第二散射测量来确定所述特征的所述特性的第二值或第二残差；和比较所述特征的所述特性的所述第一值和所述第二值，或比较所述第一残差和所述第二残差，以确定所述模型的准确性。
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