[发明专利]含有钌和碱土金属的三元氧化物膜的沉积无效
申请号: | 200980110825.6 | 申请日: | 2009-03-26 |
公开(公告)号: | CN101981226A | 公开(公告)日: | 2011-02-23 |
发明(设计)人: | 伽蒂诺谕子;J·伽蒂诺;C·杜萨拉 | 申请(专利权)人: | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及用于沉积包含钌和碱土金属的三元氧化物膜的方法和组合物。 | ||
搜索关键词: | 含有 碱土金属 三元 氧化物 沉积 | ||
【主权项】:
一种在一个或多个基板上形成三元氧化物膜的方法,其包括:a)提供至少一个置于反应器中的基板;b)将呈蒸气形式的钌前体引入所述反应器中,其中所述钌前体包括四氧化钌或具有如下通式的含钌前体:(L)mRu(L′)n且其中:‑L为不饱和的、环状或直链η4‑η6型烃配体;‑L′为独立地选自如下的直链或支链配体:羰基、碳烯、脒基、β‑二酮基、烷基、烷氧基、氢、烷基氨基、卤素、二酮亚胺、烯胺酮、二氮杂丁二烯、乙胺和甲脒;‑0≤n或m≤3;c)将呈蒸气形式的碱土金属前体引入所述反应器中,其中所述碱土金属前体包括具有如下通式的含碱土金属前体:A(RxCp)2R′y且其中:‑A为钙、锶或钡;‑R为独立地选自如下的直链或支链配体:C1‑C4烷基、烷氧基、甲硅烷基和卤素;‑R′为含有N、P或O的直链或环状烃配体;‑0≤x≤5;且‑0≤y≤2;d)在至少一个基板上沉积所述钌前体和所述碱土金属前体的至少一部分以形成三元氧化物膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的