[发明专利]多西紫杉醇高分子衍生物、及其制造方法及其用途有效
| 申请号： | 200980118842.4 | 申请日： | 2009-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN102037058A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 原田充训;斋藤宏之;加藤泰己 | 申请（专利权）人： | 那野伽利阿株式会社 |
| 主分类号： | C08G69/40 | 分类号： | C08G69/40;A61K31/337;A61K47/34;A61K47/48;A61P35/00;C08G81/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 王永红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供多西紫杉醇高分子衍生物的制造方法，所述多西紫杉醇高分子衍生物是在含有聚乙二醇和聚天冬氨酸的嵌段共聚物的天冬氨酸侧链的羧基上酯结合多西紫杉醇具有的任一个或多个羟基而成的，其中，通过调整相对于嵌段共聚物的多西紫杉醇的结合比例及/或结合数，来调整从得到的多西紫杉醇高分子衍生物中的多西紫杉醇的释放速度。 | ||
| 搜索关键词： | 紫杉醇 高分子 衍生物 及其 制造 方法 用途 | ||
【主权项】：
多西紫杉醇高分子衍生物的制造方法，所述多西紫杉醇高分子衍生物是在含有聚乙二醇和聚天冬氨酸的嵌段共聚物的天冬氨酸侧链的羧基上酯结合多西紫杉醇具有的任一个或多个羟基而成的，其特征在于，包含以下工序：通过调整相对于嵌段共聚物的多西紫杉醇的结合比例及/或结合数，来调整从得到的多西紫杉醇高分子衍生物中的多西紫杉醇的释放速度。
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