[发明专利]透明导电性转印版的制造方法、透明导电性转印版、利用透明导电性转印版的透明导电性基材的制造方法、透明导电性基材以及利用透明导电性基材的成型体无效
| 申请号： | 200980122716.6 | 申请日： | 2009-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102067245A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 柿原康男;京藤伦久;铃木教一 | 申请（专利权）人： | 户田工业株式会社;富士高品印株式会社 |
| 主分类号： | H01B13/00 | 分类号： | H01B13/00;H01B5/14;H05K9/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种透明导电性基材的制造方法，该制造方法不使用特别的装置即可简单地制成低阻抗、高透过率且抗龟纹性良好的透明导电性基材，并进一步地，适用于广泛的基材；以及一种具有足够的光学透明性和电磁波屏蔽性、并容易成型加工的透明导电性基材及其制造方法，以及一种透明导电性成型体。本发明将能够形成自组织化膜的金属微粒子分散溶液涂布于支持体上并干燥后，进行加热处理和/或化学处理，或者，将金属微粒子前驱体溶液涂布于支持体上并干燥后使其还原析出，使支持体上预先形成了具有低阻抗、高透过率以及良好抗龟纹性的导电性随机网络结构的透明导电性膜，之后，将基材和支持体互相贴合，将透明导电性膜直接转印到基材上，或者，通过粘接层或粘合层来转印，能够在广泛的基材上简单地制造低阻抗、高透过率、抗龟纹性良好的透明导电性基材。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电性 转印版 制造 方法 利用 基材 以及 成型 | ||
【主权项】：
一种透明导电性转印版的制造方法，其特征在于，将能够形成自组织化膜的金属微粒子分散溶液涂布于具有耐热性和/或耐药品性的支持体并干燥后，进行加热处理和/或化学处理，在支持体上形成具有低阻抗、高透过率以及良好抗龟纹性的导电性随机网络结构的透明导电性膜。
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