[发明专利]蒸镀装置及薄膜装置的制造方法无效
| 申请号： | 200980124621.8 | 申请日： | 2009-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN102076879A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 塩野一郎;姜友松;本多博光;村田尊则 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/48 | 分类号： | C23C14/48;G02B5/28 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，离子枪(38)及中和器(40)分别安装有照射离子导向部件(50)及照射电子导向部件(52)。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种蒸镀装置，该蒸镀装置具备：接地的真空容器、被支承在该真空容器内的基板支架、能够保持在该基板支架上的基板、离开该基板规定距离并与该基板相向的蒸镀单元、用于对所述基板照射离子的离子枪、以及用于对所述基板照射电子的中和器，该蒸镀装置的特征在于：所述中和器按照使电子照射口朝向所述基板的方向的方式进行配设，并且，所述离子枪按照离子照射口与所述基板相向的状态配设在所述真空容器内部的与配设所述基板支架的一侧相反方向的一侧；在从所述离子枪的所述离子照射口朝向所述基板支架的位置，按照使从所述离子照射口中照射出的所述离子的扩散范围缩小的方式配设有用于限制离子的照射范围的照射离子导向部件；所述照射离子导向部件相对于所述真空容器电气悬浮。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社新柯隆，未经株式会社新柯隆许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980124621.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：导电性膜的制造方法以及导电性膜
- 下一篇：移动车系统
- 同类专利
- 专利分类
