[发明专利]真空处理装置、真空处理方法无效
| 申请号： | 200980130821.4 | 申请日： | 2009-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN102112646A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 饭岛荣一;池田裕人;箱守宗人 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;H01L21/677 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 朱美红;杨楷 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供一种具有不需要大型的真空排气装置的脱气室的真空处理装置。在脱气室内对处理对象物进行加热脱气，经由缓冲室运入处理室内并进行真空处理时，脱气室与排气速度小的真空排气系统连接，在1～100Pa的真空环境下进行脱气处理(时刻0～t2)，接着令处理对象物向缓冲室移动，令缓冲室内的压力降低到与处理室内的压力相同程度(时刻t2～t3)，将缓冲室与处理室连接，将处理对象物运入处理室内。若比较压力变化的推移，将利用排气速度大的真空排气装置将脱气室形成为高真空环境的现有技术的情况(曲线组B)和本发明的情况(曲线组A)相比，处理时间没有差别。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种真空处理装置，具有：具有基板加热机构的脱气室、进行基板的真空处理的处理室，上述脱气室和上述处理室处于真空环境，在上述脱气室内被加热而被脱气处理后的处理对象物被运入上述处理室内，在上述处理室内被进行真空处理，其中，与上述脱气室连接的脱气室用真空排气装置的排气速度比与上述处理室连接的处理室用真空排气装置的排气速度小。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科，未经株式会社爱发科许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980130821.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
