[发明专利]EUV光刻设备的保护模块以及EUV光刻设备无效
| 申请号： | 200980134668.2 | 申请日： | 2009-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN102144190A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 德克·H·埃姆;蒂莫·劳弗;本·班尼;詹斯·库格勒;乌尔里克·尼肯;弗兰兹·凯勒 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 在EUV光刻设备(10)中，为了延长对污染敏感的构件的寿命，提议将它们布置在保护模块中。保护模块包括具有至少一个开口(37-47)的壳体(23-29)，至少一个构件(13a、13b、15、16、18、19)被布置于所述壳体中且设置一个或多个气体供应(30-36)，从而将气流引入该壳体(23-29)，该气流通过该至少一个开口(37-47)流出。为了有效防止污染物质渗入保护模块中，具有一个或多个波长的光源(48-56)被布置在至少一个开口(37-47)处，该光源照射所述开口(37-47)，通过该照射，污染物质在它们穿过开口(37-47)之前可被离解。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光刻 设备 保护 模块 以及 | ||
【主权项】：
一种保护模块，包括具有至少一个开口(37‑47、204)的壳体(23‑29、119‑128、202)，在所述壳体中布置至少一个构件(13a、13b、15、16、18、19、103‑107、110‑115、116、206)，且在所述壳体提供一个或多个气体供应(30‑36、118、203)，从而将气流引入所述壳体(23‑29、119‑128、202)，所述气流通过所述至少一个开口(37‑47、204)流出，其特征在于：光源(48‑56、130‑143、207‑209)被布置在所述至少一个开口(37‑47、204)处。
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