[发明专利]铁素体附着体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980136558.X 申请日: 2009-07-29
公开(公告)号: CN102159749A 公开(公告)日: 2011-08-17
发明(设计)人: 近藤幸一;小野裕司;沼田幸浩 申请(专利权)人: NEC东金株式会社
主分类号: C23C18/00 分类号: C23C18/00;C01G49/00;C01G53/00;H01F41/24;H05K9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种具备基体(3)和附着在该基体(3)上的铁素体膜的铁素体附着体及制造该铁素体附着体的制造方法。该制造方法中,在基体(3)的背面侧以空出100μm以上的空间的状态支承基体(3),将至少含有第一铁离子的反应液和至少含有氧化剂的氧化液从反应液喷嘴(1)及氧化液喷嘴(2)向基体(3)的正面侧供给,对反应液和所述氧化液施加由重力以外的因素引起的2~150m/s2的加速度。
搜索关键词: 铁素体 附着 及其 制造 方法
【主权项】:
一种制造方法,其是制造具备基体和附着在该基体上的铁素体膜的铁素体附着体的制造方法,其中,在所述基体的背面侧以空出100μm以上的空间的状态支承所述基体,将至少含有第一铁离子的反应液和至少含有氧化剂的氧化液向所述基体的正面侧供给,对所述反应液和所述氧化液施加由重力以外的因素引起的2~150m/s2的加速度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NEC东金株式会社,未经NEC东金株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980136558.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top