[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法以及存储有程序的存储介质

摘要

蒸镀装置(10)具有：多个蒸镀源单元(100)，其具有材料容器(110a)与载气导入管(110b)，并使被收纳在材料容器(110a)中的成膜材料气化，借助从载气导入管(110b)导入的第1载气输送成膜材料的气化分子；连接管(200)，其与多个蒸镀源单元(100)连接，输送在各个蒸镀源单元中被输送的成膜材料的气化分子；旁路管(300)，其将第2载气直接导入连接管(200)；处理容器(Ch)，其内置有与连接管(200)连接的喷出机构(400)，并从喷出机构(400)喷出利用第1及第2载气输送的成膜材料的气化分子，在该处理容器内部对基板进行成膜处理。

主权项

一种蒸镀装置，具有：多个蒸镀源，其具有材料容器和载气导入管，使被收纳在所述材料容器中的成膜材料气化，借助从所述载气导入管导入的第1载气输送所述成膜材料的气化分子；连接管，其与所述多个蒸镀源的每一个连接，输送在各个蒸镀源中被输送的成膜材料的气化分子；旁路管，其与所述连接管连接，将第2载气直接导入所述连接管；及处理容器，其内置有与所述连接管连接的喷出机构，从所述喷出机构喷出使用所述第1及第2载气输送的成膜材料的气化分子，在该处理容器的内部对被处理体进行成膜。