[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

摘要

基板处理装置对具有基板(62)和设置在该基板(62)上的膜面(61)的被处理基板(60)中的、该膜面(61)的边缘部(61a、61b)进行处理。基板处理装置具备：吸附保持部(10)，在基板(62)位于膜面(61)上方的状态下，从上方吸附保持被处理基板(60)；激光照射装置(20)，照射激光(L)；以及激光移动部(22)，使上述激光照射装置(20)在水平方向上移动。在从激光照射装置(20)照射激光(L)的同时使该激光照射装置(20)移动，由此对由吸附保持部(10)保持的被处理基板(60)中的膜面(61)的边缘部(61a、61b)进行处理。

主权项

一种基板处理装置，对具有基板和设置在该基板上的膜面的被处理基板中的、该膜面的边缘部进行处理，其特征在于，该基板处理装置具备：吸附保持部，在上述膜面位于上述基板另一侧的状态下，从一侧吸附保持上述被处理基板；激光照射装置，照射激光；以及激光移动部，使上述激光照射装置移动；在从上述激光照射装置照射激光的同时使该激光照射装置移动，由此对由上述吸附保持部保持的上述被处理基板中的上述膜面的边缘部进行处理。