[发明专利]制造衬底的方法有效

专利信息
申请号: 200980148548.8 申请日: 2009-11-11
公开(公告)号: CN102239540A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 斯科特·西里斯;古尔特杰·S·桑胡;安东·德维利耶 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 宋献涛
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种制造衬底的方法包括在衬底上形成第一隔开特征及第二隔开特征。所述第一隔开特征具有在组合物上与所述第二隔开特征的高度上最外区域不同的高度上最外区域。所述第一隔开特征及第二隔开特征相互交替。从所述衬底移除每隔一个第一特征,且形成成对紧邻的第二特征,其与所述第一特征中的剩余者中的个别者交替。在此移除动作之后,经由掩模图案处理所述衬底,所述掩模图案包含与所述第一特征中的剩余者中的个别者交替的所述成对紧邻的第二特征。还揭示其它实施例。
搜索关键词: 制造 衬底 方法
【主权项】:
一种制造衬底的方法,其包含:在衬底上形成隔开第一特征;在所述隔开第一特征的侧壁上形成各向异性蚀刻隔片;从所述衬底移除所述隔开第一特征且形成包含所述隔片的隔开第二特征;在所述隔开第二特征上沉积第一材料,所述第一材料具有不同于所述隔开第二特征的组合物的某组合物,所述第一材料具有非平面最外表面;在所述第一材料上沉积第二材料,所述第二材料具有不同于所述第一材料的组合物且不同于所述隔开第二特征的组合物的某组合物,所述第二材料具有平面最外表面;移除所述第二材料的仅一部分以暴露所述第一材料且形成收纳于所述第一材料上的隔开第二材料;在形成所述隔开第二材料之后,从所述隔开第二材料之间蚀刻所述第一材料,且形成包含收纳于第一材料上的隔开第二材料的隔开第三特征,所述第三特征与所述第二特征隔开;及经由包含所述隔开第二特征及所述隔开第三特征的掩模图案处理所述衬底。
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