[发明专利]用于蚀刻腔室部件的填充聚合物组成有效
| 申请号： | 200980149880.6 | 申请日： | 2009-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102245689A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | 詹尼弗·Y·孙;段仁官;赛恩·撒奇;徐理 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C08K3/22 | 分类号： | C08K3/22;C08K3/34;C08L101/00;C09J11/04;B01J19/08 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 王安武 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种具有改良抗等离子体性的填充聚合物组成。该组成包括分散于聚合物基质的粒子填充料。该粒子填充料可为五氧化二铌(Nb2O3)、三氟化钇(YF3)、氮化铝(AlN)、碳化硅(SiC)或四氮化三硅(Si3N4)及稀土族元素氧化物(rare earth oxide)。在实施例中，利用该组成作为用于静电夹头的接合粘合剂，用于喷头的接合粘合剂，用于衬垫的接合粘合剂、密封材料、O形环、或塑料部件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 部件 填充 聚合物 组成 | ||
【主权项】：
一种组成，其包含：聚合物基质；粒子填充料，其分散于该聚合物基质中；其中该粒子填充料选自由以下各者所组成的群组：Nb2O3、YF3、AlN、Al、SiC、Si3N4、稀土族元素氧化物及其组合。
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