[发明专利]合成吲哚并咔唑化合物的聚合物缀合物有效
申请号: | 200980152111.1 | 申请日: | 2009-12-22 |
公开(公告)号: | CN102264398A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | R·巴格诺德;L·贝卡利亚;L·伯塔利昂拉瓦罗萨;D·克里斯科洛;C·劳伦泽托;V·麦尼洛;A·马科尼;C·平切利;S·特拉沃萨 | 申请(专利权)人: | 克雷毕里斯股份有限公司 |
主分类号: | A61K47/48 | 分类号: | A61K47/48 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李华英 |
地址: | 卢森堡*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | 本发明涉及通过引起具有高产品收率的高纯产品的合成路线来制备吲哚并咔唑化合物的聚合物缀合物,尤其是K-252a的聚合物缀合物及其衍生物的方法。在又一方面,本发明涉及新的K-252a的聚合物缀合物及其衍生物,其中将聚合物单元连接至K-252a或至K-252a衍生化合物的化学基团的特征在于5-元噁唑烷二酮式环状结构。这些新的聚合物缀合物通过具有高纯度和高收率的新合成路线来获得。 | ||
搜索关键词: | 合成 吲哚 化合物 聚合物 缀合物 | ||
【主权项】:
1.制备式(I)吲哚并咔唑化合物的聚合物缀合物的方法其中R1和R2是相同或不同的残基并且各自独立选自:(a)氢,卤素,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的低级烯基,取代的或未取代的低级炔基,羟基,低级烷氧基,羧基,低级烷氧基羰基,酰基,硝基,氨基甲酰基,低级烷基氨基羰基,-NR5R6,其中R5和R6各自独立选自氢,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的低级烯基,取代的或未取代的低级炔基,取代的或未取代的芳基,取代的或未取代的杂芳基,取代的或未取代的芳烷基,取代的或未取代的低级烷基氨基羰基,取代的或未取代的低级芳基氨基羰基,烷氧羰基,氨基甲酰基,酰基或者R5和R6与氮原子相组合以形成杂环基团,(b)-CO(CH2)jR4,其中j是1至6,而R4选自(i)氢,卤素,-N3,(ii)-NR5R6,其中R5和R6如前文所定义,(iii)-SR7,其中R7选自氢,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的低级烯基,取代的或未取代的低级炔基,取代的或未取代的芳基,取代的或未取代的杂芳基,取代的或未取代的芳烷基,-(CH2)aCO2R10(其中a是1或2,而其中R10选自氢和取代的或未取代的低级烷基)和-(CH2)aCO2NR5R6,(iv)-OR8,-OCOR8,其中R8选自氢,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的低级烯基,取代的或未取代的低级炔基,取代的或未取代的芳基,取代的或未取代的杂芳基(c)-CH(OH)(CH2)jR4,其中j和R4如前文所定义;(d)-(CH2)dCHR11CO2R12或-(CH2)dCHR11CONR5R6,其中d是0至5,R11是氢,-CONR5R6,或-CO2R13,其中R13是氢或取代的或未取代的低级烷基,而R12是氢或取代的或未取代的低级烷基;(e)-(CH2)kR14,其中k是2至6而R14是卤素,取代的或未取代的芳基,取代的或未取代的杂芳基,-COOR15,-OR15,(其中R15是氢,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的低级烯基,取代的或未取代的低级炔基,取代的或未取代的芳基,取代的或未取代的杂芳基或酰基),-SR7(其中R7如前文所定义),-CONR5R6,-NR5R6(其中R5和R6如前文所定义)或-N3;(f)-CH=CH(CH2)mR16,其中m是0至4,而R16是氢,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的低级烯基,取代的或未取代的低级炔基,取代的或未取代的芳基,取代的或未取代的杂芳基,-COOR15,-OR15(其中R15如前文所定义),-CONR5R6或-NR5R6(其中R5和R6如前文所定义);(g)-CH=C(CO2R12)2,其中R12如前文所定义;(h)-C≡C(CH2)nR16,其中n是0至4而R16如前文所定义;(i)-CH2OR22,其中R22是三-低级烷基甲硅烷基,其中所述三个低级烷基是相同或不同的或者其中R22具有与R8相同的含义;(j)-CH(SR23)2和-CH2-SR7,其中R23是低级烷基,低级烯基或低级炔基而其中R7如前文所定义;并且R3是氢,卤素,酰基,氨基甲酰基,取代的或未取代的低级烷基,取代的或未取代的烯基,取代的或未取代的低级炔基或氨基;并且W1和W2独立地是氢,羟基或者W1和W2一起代表氧;而其中X是聚合物部分,其中所述方法包括将通式(II)的ω-1H-咪唑-甲酰胺聚合物化合物其中X如上文所定义,与通式(III)的吲哚并咔唑化合物反应其中R1,R2,R3,W1和W2如上文所定义并且其任选受保护基团保护而其中Y代表离去基团,并且其中所述方法还任选包括脱保护基团R1,R2,R3,W1和W2以获得式(I)化合物。
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