[发明专利]等离子体处理装置有效
申请号: | 201010103970.6 | 申请日: | 2010-01-26 |
公开(公告)号: | CN101800149A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 田中诚治;藤永元毅 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种等离子体处理装置,其即使在发生处理异常等的情况下也能够抑制生产率的降低。该等离子体处理装置设置有根据处理条件对被处理体(G)进行等离子体处理的处理室,该等离子体处理装置具有:存储有与处理条件不同的多个再处理条件的存储部;以及具有监视等离子体处理中有无发生异常的监视功能、和判定发生的异常的种类的判定功能的控制系统(50),在等离子体处理中发生异常的情况下,控制系统(50)根据判定的异常的种类,从多个再处理条件中选择一个再处理条件,对被处理体(G)进行再处理。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其设置有根据处理条件对被处理体进行等离子体处理的处理室,该等离子体处理装置的特征在于,具有:存储有与所述处理条件不同的多个再处理条件的存储部;以及具有监视所述等离子体处理中有无发生异常的监视功能、和判定发生的异常的种类的判定功能的控制系统,其中在所述等离子体处理中发生异常的情况下,所述控制系统根据所判定的异常的种类,从所述多个再处理条件中选择一个再处理条件,对所述被处理体进行再处理。
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