[发明专利]一种体硅浮体晶体管存储器的刷新操作方法有效

专利信息
申请号: 201010113756.9 申请日: 2010-02-25
公开(公告)号: CN102169714A 公开(公告)日: 2011-08-31
发明(设计)人: 林殷茵;孟超;董存霖;程宽 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G11C11/406 分类号: G11C11/406
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于动态随机存储器技术领域,具体为一种体硅浮体晶体管存储器的刷新操作方法。本发明的刷新操作方法包括在体硅FBC的隐埋层上偏置电压脉冲以使隐埋层与浮体区之间的PN结弱导通步骤,使存储器由“强1”状态变为“弱1”状态,或者由“弱0”变为“强0”状态;该方法并不利用Charge Bumping(电荷泵)效应进行刷新操作,因此具有刷新操作的可靠性高的特点。同时,对于FBC存储器单元或存储器,刷新操作过程中不存在读取过程,进而可以对FBC存储器的存储阵列进行整体刷新操作。
搜索关键词: 一种 体硅浮体 晶体管 存储器 刷新 操作方法
【主权项】:
一种体硅浮体晶体管存储器单元的刷新操作方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在浮体晶体管的栅极上偏置电压脉冲,以使存储第一数据状态的浮体晶体管导通,或者以使存储第二数据状态的浮体晶体管截止;在浮体晶体管的漏端/源端偏置高电平脉冲,以使所述导通的浮体晶体管的浮体区的存储电荷实现第一增量,或者以使所述截止的浮体晶体管的浮体区的存储电荷实现第二增量,所述第一增量远大于第二增量;在浮体晶体管的隐埋层上偏置电压脉冲以使隐埋层与浮体区之间的PN结反向截止;(2)在浮体晶体管的隐埋层上偏置电压脉冲,以使隐埋层与浮体区之间的PN结弱导通;以及(3)重复所述第(1)步骤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010113756.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top