[发明专利]位置对准机构、加工装置以及位置对准方法有效
申请号: | 201010115105.3 | 申请日: | 2010-02-11 |
公开(公告)号: | CN101807537A | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
发明(设计)人: | 小林长 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/304 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 陈坚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种位置对准机构、加工装置以及位置对准方法,其不会使含有翘曲的半导体晶片破损,能使该半导体晶片与卡盘工作台高精度地进行位置对准。位置对准机构包括:临时载置工作台(23),其形成为直径大于半导体晶片(W)的外径,并具有对半导体晶片的至少外周缘部进行吸附的吸附面(25);摄像机构(24),其对吸附于吸附面的半导体晶片的外周缘部进行摄像;控制部(19),其根据半导体晶片的外周缘部的图像数据,计算出半导体晶片的中心的位置数据;和晶片供给部(17),其在根据半导体晶片的中心的位置数据而使半导体晶片的中心位置对准了保持半导体晶片的卡盘工作台(52)的保持面(56)的中心位置的状态下,将半导体晶片载置于保持面。 | ||
搜索关键词: | 位置 对准 机构 加工 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种位置对准机构,其特征在于,上述位置对准机构包括:工件支撑座,其形成为直径比工件的外径大,并且具有对上述工件的至少外周缘部进行吸附的吸附面;位置数据获取部,其用于获取吸附于上述吸附面的上述工件的外周缘部的位置数据;位置数据计算部,其根据上述工件的外周缘部的位置数据,计算出上述工件的中心的位置数据;以及位置对准部,其在根据上述工件的中心的位置数据,使上述工件的中心相对于保持上述工件的保持工作台的保持面的中心进行了位置对准的状态下,将上述工件载置于上述保持面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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