[发明专利]离子发生装置及具备该装置的美容装置无效
| 申请号： | 201010121268.2 | 申请日： | 2010-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN101804244A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 谷口真一 | 申请（专利权）人： | 松下电工株式会社 |
| 主分类号： | A61N1/44 | 分类号： | A61N1/44 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦;胡建新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子发生装置及具备该离子发生装置的美容装置，可以使向外部的喷出量相对于离子发生量增加。在负离子生成电路(73)中，具备电阻(75)，将和离子放射用的针电极(63)成对设置的对置电极(64)设定为比接地电位高的指定电位。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 发生 装置 具备 美容 | ||
【主权项】：
一种离子发生装置，具有离子放射用的第1电极和低电位方的第2电极，基于对上述第1电极施加高电压使两个电极间产生放电来发生离子，其特征为，具备电位设定机构，将上述第2电极设定为上述第1电极的电位与接地电位之间的电位。
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