[发明专利]高效率的硅片清洗水槽和清洗方法

摘要

本发明提供高效率的硅片清洗水槽，通过将水槽上部和水槽下部集成到一起，并设置一个可升降板，可升降板和水槽上部的侧壁可形成独立水槽，水槽上部的深度大于硅片半径的3倍，水槽上部设有纯水进水管和防漏槽，防漏槽上设有排水管，水槽下部的深度大于硅片半径的3倍，水槽下部设有药液进液口和药液排液口，在水槽下部还设有排气管从而大大减少了清洗水槽的占地面积；本发明还提供利用清洗水槽的硅片清洗方法，通过可升降板在水槽下部、以及水槽上部与水槽下部的连接处运动，完成药液清洗和纯水清洗，能够方便快捷的清洗硅片。

主权项

一种高效率的硅片清洗水槽，其特征在于，包括：水槽上部、与所述水槽上部成一体的水槽下部、以及可升降板，所述水槽上部的截面小于所述水槽下部的截面，所述可升降板大于所述水槽上部的截面且小于所述水槽下部的截面，所述可升降板在水槽下部、以及水槽上部与水槽下部的连接处运动，所述可升降板升起至所述水槽上部与所述水槽下部的连接处时，与所述水槽上部的侧壁紧密贴合，所述可升降板与所述水槽上部的侧壁形成一个独立水槽；所述水槽上部的深度大于所述硅片半径的3倍，所述水槽上部设有纯水进水管和防漏槽，所述防漏槽上设有排水管；所述水槽下部的深度大于所述硅片半径的3倍，所述水槽下部设有药液进液口和药液排液口，在所述水槽下部还设有排气管。