[发明专利]发光器件、制造发光器件的方法以及发光装置有效
申请号: | 201010135752.0 | 申请日: | 2010-03-10 |
公开(公告)号: | CN101834252A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 丁焕熙 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L33/36 | 分类号: | H01L33/36 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 顾晋伟;王春伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供发光器件、制造发光器件的方法以及发光装置。所述发光器件包括:导电衬底、反射层、支撑层、欧姆接触层和发光半导体层。反射层设置在导电衬底上。支撑层部分设置在反射层上。欧姆接触层设置在支撑层的侧面处。发光半导体层设置在欧姆接触层和支撑层上。 | ||
搜索关键词: | 发光 器件 制造 方法 以及 装置 | ||
【主权项】:
一种发光器件,包括:导电衬底;在所述导电衬底上的反射层;在所述反射层上部分地设置的支撑层;在所述支撑层的侧面处的欧姆接触层;和在所述欧姆接触层和所述支撑层上的发光半导体层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG伊诺特有限公司,未经LG伊诺特有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010135752.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:蓄电装置
- 下一篇:栅极轮廓的进阶工艺控制方法与制造集成电路元件的系统