[发明专利]曝光机台、阵列基板、图案化薄膜、光刻胶层及形成方法有效
| 申请号： | 201010141540.3 | 申请日： | 2010-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101846888A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 萧祥志;廖达文;杨志敏;陈珊芳;张雅萍;杨启宏;廖崇源 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/14 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了曝光机台、图案化薄膜的形成方法、图案化光刻胶层的形成方法、主动元件阵列基板以及图案化薄膜，该曝光机台适于对一薄膜上的一光刻胶层进行曝光，以于光刻胶层上形成多个条状曝光图案，而曝光机台包括一光源、一透镜组以及一光掩模。透镜组配置于光刻胶层与光源之间，透镜组包括多个彼此平行排列的条状透镜，其中任二相邻条状透镜的重迭区域定义为一透镜接合区域，而透镜接合区域以外的区域则定义为多个透镜区域。光掩模配置于光刻胶层与透镜组之间，其中光掩模具有多个遮光图案，遮光图案的外轮廓对应于条状曝光图案，而各遮光图案分别具有一条状开口，且条状开口的延伸方向实质上平行于遮光图案的延伸方向。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机台 阵列 图案 薄膜 光刻 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光机台，适于对一薄膜上的一光刻胶层进行曝光，以于该光刻胶层上形成多个条状曝光图案，其特征在于，该曝光机台包括：一光源；一透镜组，配置于该光刻胶层与该光源之间，该透镜组包括多个彼此平行排列的条状透镜，其中任二相邻条状透镜的重迭区域定义为一透镜接合区域，该些透镜接合区域以外的区域则定义为多个透镜区域；以及一光掩模，配置于该光刻胶层与该透镜组之间，其中该光掩模具有多个遮光图案，该遮光图案的外轮廓对应于该条状曝光图案，各该遮光图案分别具有一条状开口，且该条状开口的延伸方向平行于该遮光图案的延伸方向。
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