[发明专利]集成电路结构有效

专利信息
申请号: 201010155583.7 申请日: 2010-04-02
公开(公告)号: CN101866919A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 周淳朴;陈和祥 申请(专利权)人: 中国台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/06;H01L23/522;H01L23/66
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 姜燕;邢雪红
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种集成电路结构,该结构包括:一半导体基板,具有一第一导电性;一耗尽区,位于该半导体基板内;一深阱区,大体为该耗尽区所包覆。该深阱区具有相反于该第一导电性的一第二导电性,且包括直接位于该深阱区上的一第一部与直接位于该深阱区下的一第二部。一传输线直接位于该耗尽区上。本发明的优点包括了对于高频传输线的信号损失降低,特别是射频传输线。此外,本发明可与现今工艺相整合而无须额外工艺步骤或光刻掩模的使用。
搜索关键词: 集成电路 结构
【主权项】:
一种集成电路结构,包括:一半导体基板,具有一第一导电性;一耗尽区,位于该半导体基板内;一深阱区,大体为该耗尽区所包覆,其中该深阱区具有相反于该第一导电性的一第二导电性,且该耗尽区包括直接位于该深阱区上的一第一部与直接位于该深阱区下的一第二部;以及一传输线,直接位于该耗尽区上。
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