[发明专利]三阶非线性光学性碲基复合薄膜及其制备方法无效
申请号: | 201010162549.2 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN101838112A | 公开(公告)日: | 2010-09-22 |
发明(设计)人: | 辜敏;李强;鲜晓东;甘平 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
主分类号: | C03C17/22 | 分类号: | C03C17/22;G02B1/10;G02F1/355 |
代理公司: | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人: | 谢殿武 |
地址: | 400044 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明公开了一种三阶非线性光学性碲基复合薄膜及其制备方法,为SiO2颗粒之间嵌有TeO2和/或Te形成的Te/TeO2-SiO2复合薄膜结构,薄膜采用电化学诱导溶胶-凝胶方法制成,复合薄膜结构具有良好的非线特性,三阶非线性光学极化率χ(3)达到10-8esu以上;通过TeO2-SiO2透明复合溶胶采用电化学方法制备Te/TeO2-SiO2复合薄膜,利用电化学诱导从溶胶中析出TeO2和/或Te,与SiO2形成膜,达到形成Te/TeO2-SiO2复合薄膜结构的目的,工艺简单;通过TeO2-SiO2透明复合溶胶-凝胶采用真空镀膜的方法制备Te/TeO2-SiO2复合薄膜,利用热处理的温度控制,调控凝胶粉末中的组成和结构,达到形成Te/TeO2-SiO2复合薄膜结构的目的,工艺简单可靠可靠,膜层厚度均匀。 | ||
搜索关键词: | 非线性 光学 性碲基 复合 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种三阶非线性光学性碲基复合薄膜,其特征在于:为SiO2颗粒之间嵌有TeO2和/或Te形成的Te/TeO2-SiO2复合薄膜结构。
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