[发明专利]曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法有效
| 申请号： | 201010162838.2 | 申请日： | 2010-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101813895A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 许咏政;温孟川;王炯翰 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 郑特强;黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种曝光机台及应用该曝光机台的曝光方法。曝光机台包括多个光源、多个灯罩以及一承置平台。灯罩设置于光源的一侧，且各灯罩包含至少两个面向各光源的椭圆弧反射面。承置平台设置于光源的与灯罩相对的另一侧，所述至少两个椭圆弧反射面面向承置平台。曝光方法包括下述步骤：提供一待曝光基板于承置平台上；以及使用光源照射待曝光基板。所述至少两个椭圆弧反射面朝向待曝光基板反射光线。当光源照射待曝光基板时，待曝光基板的一配向高分子材料层硬化产生一配向角度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 机台 应用 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光机台，包括：多个光源；多个灯罩，对应地设置于所述多个光源的一侧，每个所述灯罩分别包含至少两个面向各所述光源的椭圆弧反射面；以及一承置平台，设置于所述光源的与所述灯罩相对的另一侧；其中各所述灯罩的至少两个椭圆弧反射面面向该承置平台。
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