[发明专利]钕铁硼磁性材料及其制备方法无效
申请号: | 201010174232.0 | 申请日: | 2010-05-17 |
公开(公告)号: | CN101819841A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 徐芳;董显平;刘琼珍;王静;张澜庭;吴建生 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;B22F9/04;C22C1/05 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种永磁材料技术领域的钕铁硼磁性材料及其制备方法,通过将锭块或速凝薄片进行粗破碎处理并经气流磨制成粉末,并在磁场下取向压制成型,然后将坯体进行冷等静压及高真空烧结,最后经回火处理制成钕铁硼磁性材料,获得氧含量在1500~4400ppm范围内,方形度高达98%~99%的钕铁硼磁体。通过对磁体的显微组织进行观察,结果表明:磁体中dhcp结构的富Nd相氧含量<9at.%,fcc结构的富Nd相氧含量为10at.%~48at.%。 | ||
搜索关键词: | 钕铁硼 磁性材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种钕铁硼磁性材料,其特征在于,其合金成分为NdaFe100-a-b-cBbMc,其中:11≤a≤24、5.5≤b≤7、0≤c≤7,M为Pr、Dy、Tb、Gd、Al、Cu、Ga、Nb、Co或Y元素中一种或几种,所述铁硼磁性材料的方形度为98%~99%,氧含量在1500~4400ppm范围内。
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