[发明专利]一种碳纳米管网络结构存储器及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010186357.5 申请日: 2010-05-27
公开(公告)号: CN101882621A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 李辉;瞿敏妮;仇志军;吴东平;张世理 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L21/8239;G11C13/02
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于微电子技术领域,具体为一种碳纳米管网络结构存储器及制备方法。该存储器包括:以硅为衬底,衬底表面氧化形成二氧化硅绝缘层,在绝缘层上淀积源极、漏极两个电极,两个电极具有一定的间距,利用光刻胶在两个电极之间刻蚀一定长宽的窗口,窗口的长度为两电极间距,在此窗口中淀积一层碳纳米管形成碳纳米管网络通路,并与两端的电极形成接触。通过在衬底(背栅)施加正负电压来实现数据的存储与擦除,测量源极、漏极的电流来实现存储数据读出。该器件结构简单,易于制作与集成。
搜索关键词: 一种 纳米 网络 结构 存储器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种碳纳米管网络结构存储器,其特征在于:存储器以硅为衬底,在衬底表面是氧化形成的二氧化硅绝缘层,在二氧化硅绝缘层上淀积有源极和漏极两个电极;所述两个电两个电极之间具有间距,利用光刻胶在两个电极之间刻蚀有一窗口,窗口的长度为两电极间距,在该窗口中淀积有一层碳纳米管形成的碳纳米管网络通路,并与两端的电极形成接触。
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