[发明专利]化学汽相沉积设备

摘要

一种能够通过延长清洁循环而改进产量的化学汽相沉积设备，该设备包括：具有用于支撑基板的基板支撑件的腔室；具有多个第一源供应孔的腔室盖，所述腔室盖安装在腔室上方；用于提供处理源至多个第一源供应孔的多个源供应管；具有多个第二源供应孔的喷射管支撑件，所述多个第二源供应孔对应于多个第一源供应孔，所述喷射管支撑件可拆卸地安装在腔室盖中；以及具有多个第三源供应孔和多个源喷射孔的多个源喷射管，所述多个源喷射管由喷射管支撑件支撑，其中所述多个第三源供应孔由多个第二源供应孔提供处理源，所述多个源喷射孔喷射处理源到基板上。

主权项

一种化学汽相沉积设备，包括：具有用于支撑基板的基板支撑件的腔室；具有多个第一源供应孔的腔室盖，所述腔室盖安装在所述腔室上方；用于提供处理源至所述多个第一源供应孔的多个源供应管；具有多个第二源供应孔的喷射管支撑件，所述多个第二源供应孔对应于所述多个第一源供应孔，所述喷射管支撑件可拆卸地安装在所述腔室盖中；以及具有多个第三源供应孔和多个源喷射孔的多个源喷射管，所述多个源喷射管由所述喷射管支撑件支撑，其中所述多个第三源供应孔由所述多个第二源供应孔提供所述处理源，所述多个源喷射孔喷射所述处理源到所述基板上。