[发明专利]阵列基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器有效
| 申请号： | 201010193300.8 | 申请日： | 2010-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN102262324A | 公开（公告）日： | 2011-11-30 |
| 发明（设计）人： | 吕敬 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1335;H01L27/02;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器，其中的阵列基板，包括衬底基板，以及以拼接方式形成在所述衬底基板上的像素电极、信号线和绝缘层，在拼接区域，至少一条信号线为分段式结构，所述分段式结构的信号线上各个折线段由两次曝光工艺制成，且相邻的两个折线段由不同的曝光工艺制成。上述实施例中的阵列基板上的信号线设计为补偿式的设计方案，采用上述的技术方案制造的阵列基板，即使在拼接时存在层间对位偏差，也能够避免因两次曝光工艺的层间对位差异而造成显示不良。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 液晶面板 液晶显示器 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括衬底基板，以及以拼接方式形成在所述衬底基板上的像素电极、信号线和绝缘层，其特征在于，在拼接区域，至少一条信号线为分段式结构，所述分段式结构的信号线上各个折线段由两次曝光工艺制成，且相邻的两个折线段由不同的曝光工艺制成。
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