[发明专利]晶片双流体清洗装置无效
| 申请号： | 201010195947.4 | 申请日： | 2010-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN101850343A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 袁立伟;王仲康;杨生荣;王欣 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人： | 张贰群 |
| 地址： | 065201 河北省三河市*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种晶片双流体清洗装置，涉及对半导体专用设备用的晶片清洗装置技术领域。设有摆动竖杆，摆动竖杆设有净化空气入口、去离子水入口和气雾喷口；摆动竖杆和摆动装置相连。本发明能有效解决现有技术中存在的问题，具有清洗质量和效率高、结构紧凑、体积小、使用方便灵活等特点；喷嘴可左右摆动，均匀的清洗晶片表面；旋转精度高，寿命长，便于加工制造；可形成即干性微小粒子代替水流进行清洗；可调整喷嘴旋转的角度和起始位置；气雾的大小和力量可通过调整水和气的流量和压力来调节，可实现不同的清洗效果；可靠性和稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 双流 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种晶片双流体清洗装置，其特征在于设有摆动竖杆(10)，摆动竖杆(10)设有净化空气入口(10-1)、去离子水入口(9-1)和气雾喷口(9-2)；摆动竖杆(10)和摆动装置相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第四十五研究所，未经中国电子科技集团公司第四十五研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010195947.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：修复有机氯污染土壤的方法
- 下一篇：喷头封存装置
