[发明专利]寄生晶闸管以及静电保护电路有效
申请号: | 201010221862.9 | 申请日: | 2010-06-29 |
公开(公告)号: | CN102315259A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 单毅;陈晓杰 | 申请(专利权)人: | 上海宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L29/74 | 分类号: | H01L29/74;H01L29/06;H01L27/04 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种寄生晶闸管以及静电保护电路,所述寄生晶闸管包括:半导体衬底;位于半导体衬底内且相邻的N阱以及P阱;位于半导体衬底表面且横跨于N阱以及P阱的第一伪栅;位于N阱表面的第二伪栅;位于第一伪栅以及第二伪栅之间N阱内的N型触发电压调整区;位于第二伪栅相对于N型触发电压调整区另一侧N阱内的P型注入区;位于第一伪栅另一侧P阱内的N型注入区;还包括阳极,连接至P型注入区以及N阱;阴极,连接至N型注入区以及P阱。本发明所述寄生晶闸管,导通电路形成于半导体衬底的表面区域内,因此路径较短,开启速度较快,且通过N型触发电压调整区外接触发电压调整电路,而具有调整降低触发电压的功能。 | ||
搜索关键词: | 寄生 晶闸管 以及 静电 保护 电路 | ||
【主权项】:
一种寄生晶闸管,其特征在于,包括:半导体衬底;位于半导体衬底内且相邻的N阱以及P阱;位于半导体衬底表面且横跨于N阱以及P阱的第一伪栅;位于N阱表面的第二伪栅;位于第一伪栅以及第二伪栅之间N阱内的N型触发电压调整区;位于第二伪栅相对于N型触发电压调整区另一侧N阱内的P型注入区;位于第一伪栅另一侧P阱内的N型注入区;还包括阳极,连接至P型注入区以及N阱;阴极,连接至N型注入区以及P阱。
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