[发明专利]镀膜装置与其蒸发源装置,及其蒸发源容器无效
申请号: | 201010225087.4 | 申请日: | 2010-07-05 |
公开(公告)号: | CN101949002A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 松浦宏育;土井秀明;加藤升;韭泽信广 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 熊志诚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及镀膜装置、蒸发源装置,及其蒸发源容器。在真空内向被蒸镀基板表面包覆蒸镀材料的镀膜装置中使用的蒸发源装置具有加热箱(210),该加热箱在其外部具有加热器(71H),在其内部形成空间,在垂直方向层叠并容纳多个蒸发源容器(220);各蒸发源容器具有:由高导热材料构成的容器(221),其断面形成为大致“U”字形,并且在大致中央部形成用于放出气体的贯通孔(222),并以围绕该贯通孔的方式形成;覆盖容器的上面开口,由高导热材料构成的盖体(225);将在容器内产生的蒸镀材料的气体通过间隙引导到贯通孔,集中到设于上述加热箱上部的导向部(212),通过喷出孔(213)供应到被蒸镀基板(100)的表面。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 装置 与其 蒸发 及其 容器 | ||
【主权项】:
一种镀膜装置,用于在真空内向被蒸镀基板表面包覆蒸镀材料,其特征在于,具有:真空室;在所述真空室内,加热所述蒸镀材料而产生该蒸镀材料的气体的装置;将来自所述产生气体的装置的蒸镀材料的气体供应到所述被蒸镀基板表面的蒸发源装置,所述蒸发源装置做成将多个蒸发源容器在垂直方向层叠的结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010225087.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类