[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010233642.8 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101900951A | 公开（公告）日： | 2010-12-01 |
| 发明（设计）人： | P·R·M·亨努斯;J·J·S·M·梅坦斯;P·J·C·H·斯穆德斯;P·斯米特斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻装置和器件制造方法。一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投影装置，包括：配置成保持基底的基底台；以及在一端与基底台连接并且在另一端由基底台上的夹具可拆卸地保持在适当位置的密封凸出部。
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