[发明专利]真空镀膜件及其制备方法无效
| 申请号： | 201010235428.6 | 申请日： | 2010-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN102337501A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;马闯 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种真空镀膜件。该真空镀膜件包括一基体及一形成于基体上的颜色层。该颜色层为一氧化铬层，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于75至80之间，a*坐标介于-5至-10之间，b*坐标介于15至20之间。本发明还提供一种上述真空镀膜件的制备方法。本发明的真空镀膜件呈现出绿色。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜件，包括一基体及一形成于基体上的颜色层，其特征在于：该颜色层为一氧化铬层，该颜色层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介于75至80之间，a*坐标介于‑5至‑10之间，b*坐标介于15至20之间。
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