[发明专利]曝光装置和设备制造方法无效
| 申请号： | 201010248847.3 | 申请日： | 2010-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN101995775A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 深见清司 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/08;G02B13/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吕林红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置和设备制造方法，其中曝光装置，具有投影光学系统，该投影光学系统将在物面上配置的原版的图案投影至在像面上配置的基板；所述投影光学系统具有：在所述物面至所述像面的光路上从所述物面起依次配置的第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜；和折射光学系统，在所述第1凹面镜和所述凸面镜之间以及所述凸面镜和所述第2凹面镜之间配置，并且具有正的屈光度；所述折射光学系统包括：第1透镜，由折射率的温度变化系数为正的材料所构成；和第2透镜，由折射率的温度变化系数为负的材料所构成。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，具有投影光学系统，该投影光学系统将在物面上配置的原版的图案投影至在像面上配置的基板，其特征在于：所述投影光学系统具有：在所述物面至所述像面的光路上从所述物面起依次配置的第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜；和折射光学系统，在所述第1凹面镜和所述凸面镜之间以及所述凸面镜和所述第2凹面镜之间配置，并且具有正的屈光度；所述折射光学系统包括：第1透镜，由折射率的温度变化系数为正的材料所构成；和第2透镜，由折射率的温度变化系数为负的材料所构成。
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