[发明专利]硅基液晶成像器无效
| 申请号： | 201010249264.2 | 申请日： | 2010-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN101989012A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 河·H·黄 | 申请（专利权）人： | 江苏丽恒电子有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1335;G02F1/1362;G02F1/1333;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 212009 江苏省镇江市高*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅基液晶成像器。该成像器包括：衬底基板；反射偏振电极阵列，形成在衬底基板上，反射偏振电极阵列包括多个反射偏振电极，每个反射偏振电极图案构成为具有彼此平行且规则间隔并电绝缘的缝隙的平面结构；平面液晶单元，形成在反射偏振电极阵列的上方；透明导电膜层，形成在平面液晶单元的上方；透明面板，置于透明导电膜层上且朝向入射光。本发明所提供的硅基液晶成像器，通过内置反射偏振电极阵列，使得反射偏振电极阵列能将一部分偏振光线反射回去，而将另一部分偏振光线透过而如所希望的那样不会反射回去，从而可以降低成像器的对比度损失。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 成像 | ||
【主权项】：
一种硅基液晶成像器，其特征在于，包括：衬底基板；反射偏振电极阵列，形成在所述衬底基板上，所述反射偏振电极阵列包括多个反射偏振电极，每个反射偏振电极的图案构造为具有彼此平行且规则间隔并电绝缘的缝隙的平面结构；平面液晶单元，形成在所述反射偏振电极阵列的上方；透明导电膜层，形成在所述平面液晶单元的上方；透明面板，置于所述透明导电膜层上且朝向入射光。
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