[发明专利]多层基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010250296.4 申请日: 2005-09-16
公开(公告)号: CN101896036A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: 川畑贤一;阿部寿之;胜俣正史 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/46;H05K3/42
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 多层基板及其制造方法。该多层基板的设计自由度高,适合高密度安装且具有高性能。多层基板包括层叠的多个绝缘层;和在多个绝缘层各个之间形成的、未贯穿该多个绝缘层中的任意一层的配线图形,配线图形包括具有预定厚度的第1配线图形和厚度大于第1配线图形的第2配线图形。通过消去法对厚度一定的导电层进行构图而形成第1配线图形。在形成通孔的同一工序中,通过开孔加工,形成图形形成用槽,然后用导电性材料同时填充通孔和图形形成用槽的内部,形成第2配线图形。第1配线图形优选用作为图形的宽度和厚度偏差小、要求相对于绝缘层的图形厚度精度的高频电路用LC图形和要求阻抗匹配的通常的配线图形。第2配线图形优选用作为扼流圈用L图形。
搜索关键词: 多层 及其 制造 方法
【主权项】:
一种多层基板,其特征在于,包括:层叠的多个绝缘层;和在所述多个绝缘层各个之间形成的、未贯穿该多个绝缘层中的任意一层的配线图形,并且,所述配线图形包括具有预定厚度的第1配线图形和厚度大于所述第1配线图形的第2配线图形。
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