[发明专利]涂敷显影装置和涂敷显影方法有效

专利信息
申请号: 201010262585.6 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN101996867A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 松冈伸明 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;H01L21/68;G03F7/00
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供能够使晶片搬送臂的移动距离变短,缩短处理时间,使所占空间变小的涂敷显影装置和涂敷显影方法。该涂敷显影装置具有液体处理单元(COTU),其包括:使用药液对基板进行液体处理的液体处理部(COT);与液体处理部(COT)对应设置,对基板进行冷却处理的冷却处理部(CA);和与冷却处理部(CA)对应设置,对基板进行加热处理的加热处理部(HP)。冷却处理部(CA)具有在其与液体处理部(COT)之间以及与加热处理部(HP)之间搬送基板的基板搬送功能。
搜索关键词: 显影 装置 方法
【主权项】:
一种涂敷显影装置,其将利用载体搬入到载体块的基板交接至处理部,在由所述处理部形成包含抗蚀剂膜的涂敷膜之后,经由接口块搬送至曝光装置,由所述处理部对经由所述接口块送回的曝光后的基板进行显影处理,并交接至所述载体块,该涂敷显影装置的特征在于:具有液体处理单元,该液体处理单元包括:使用药液对基板进行液体处理的液体处理部;与所述液体处理部对应设置,对基板进行冷却处理的冷却处理部;和与所述冷却处理部对应设置,对基板进行加热处理的加热处理部,所述冷却处理部具有在其与所述液体处理部之间以及与所述加热处理部之间搬送基板的基板搬送功能。
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