[发明专利]发光结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010282957.1 申请日: 2010-09-15
公开(公告)号: CN102403432A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 许嘉良 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/54
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种发光结构及其制造方法。该发光结构包含半导体发光元件,此半导体发光元件包含第一接点与第二接点。上述的发光结构又包括第一电极电连接第一接点与第二电极电连接第二接点,且第一电极与第二电极形成凹面。其中半导体发光元件位于凹面内。
搜索关键词: 发光 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
一种发光结构,包含:半导体发光元件包含第一表面,其中该第一表面具有第一接点及第二接点;第一电极电连接该第一接点;以及第二电极电连接该第二接点,该第一电极与该第二电极形成凹面;其中该半导体发光元件位于该凹面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010282957.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top