[发明专利]半导体封装件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010286340.7 申请日: 2010-09-07
公开(公告)号: CN101982876A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 翁肇甫;王昱祺 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/52;H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陆勍
地址: 中国台湾高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体封装件及其制造方法。半导体封装件包括第一线路结构、第一半导体组件、第一介电层、贯孔导电结构、第二线路结构、第二半导体组件、第二介电层及强化结构。第一介电层包覆第一半导体组件,第一介电层定义贯穿部并具有对应贯穿部的贯穿部壁面。贯孔导电结构形成于贯穿部壁面上并电性连接于第一线路结构。第二线路结构电性连接于贯孔导电结构。第二半导体组件设于第二线路结构上并电性连接于贯孔导电结构。第二介电层包覆第二半导体组件。强化结构用以强化半导体封装件的强度,其中第二介电层位于第一线路结构与强化结构之间。
搜索关键词: 半导体 封装 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体封装件,包括:一第一线路结构;一第一半导体组件,设于该第一线路结构上;一第一介电层,定义一第一贯穿部并包覆该第一半导体组件,该第一介电层具有对应该第一贯穿部的一第一贯穿部壁面,该第一贯穿部露出该第一线路结构;一贯孔导电结构,至少形成于该第一贯穿部壁面上并电性连接于该第一线路结构;一第二线路结构,覆盖该第一介电层并电性连接于该贯孔导电结构;一第二半导体组件,设于该第二线路结构上,该第二半导体组件透过该第二线路结构电性连接于贯孔导电结构;一第二介电层,包覆该第二半导体组件;以及一强化结构,用以强化该半导体封装件的强度,其中该第二介电层位于该第一线路结构与该强化结构之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010286340.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top