[发明专利]晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法有效
| 申请号： | 201010290341.9 | 申请日： | 2010-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102147572A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 简聪智;陈永镇;李宏仁 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 姜燕;陈晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种晶片边缘曝光模块及晶片边缘曝光方法，该晶片边缘曝光模块连接至一半导体晶片涂布显影系统。该晶片边缘曝光模块包括一晶片旋转装置、一光学系统、一扫描机界面模块以及一控制器。该晶片旋转装置支持一晶片，以进行加工。该光学系统同时将一曝光光线指向该晶片的一各别边缘部分，以于该晶片的边缘上创造一伪图案。该扫描机界面模块通过一计算机网络传送及/或接收来自一扫描机的一伪边缘曝光信息。该控制器接收来自该扫描机界面模块的该伪边缘曝光信息，并利用该伪边缘曝光信息控制该光学系统。本发明可减少扫描机曝光时间及增加产率。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 边缘 曝光 模块 方法 | ||
【主权项】：
一种晶片边缘曝光模块，连接至一半导体晶片涂布显影系统，包括：一晶片旋转装置，支持一晶片，该晶片涂布有一光敏感材料；一光学系统，同时将一曝光光线指向该晶片的一各别边缘部分；一扫描机界面模块，通过一计算机网络传送或接收来自一扫描机的一伪边缘曝光信息；以及一控制器，利用来自该扫描机的该伪边缘曝光信息控制该光学系统。
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