[发明专利]压印光刻方法和设备有效
| 申请号： | 201010294425.X | 申请日： | 2010-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102023496A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | S·F·乌伊斯特尔;A·J·邓波埃夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种压印光刻方法和设备，所述方法包括：使得压印模板与设置在衬底上的压印介质形成接触，且将光化辐射引导至所述压印介质处，所述光化辐射被定向成使得它非垂直地入射到所述压印模板的图案化表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 压印 光刻 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种压印光刻方法，所述方法包括：使得压印模板与设置在衬底上的压印介质形成接触，且将光化辐射引导至所述压印介质处，所述光化辐射被定向成使得它非垂直地入射到所述压印模板的图案化表面上。
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