[发明专利]一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 201010296317.6 | 申请日： | 2010-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101949005A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 刘革 | 申请（专利权）人： | 沈阳东创贵金属材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C22C1/02 |
| 代理公司： | 沈阳东大专利代理有限公司 21109 | 代理人： | 梁焱 |
| 地址： | 110015 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法，金靶材成份按质量百分比为：Y0.1%～1.3%,Fe1.2%～3%,Cr0.5%～2.5%,In0.5%～2%,Al0.2%～1%，其余为Au。采用高频感应炉熔炼，先将铁和铬放入坩埚底部，再将金料加入坩埚内，开始熔炼，待合金熔化后搅拌均匀，然后依次加入铟、铝及钇，将炉温控制为1150～1250℃，精炼3～5分钟，将合金浇入预热的铸铁模中，冷凝后取出，自然冷却至室温，通过铣面、冷轧、矫直和剪切操作，获得香槟色金靶材。本发明的金靶材各项技术指标均满足国际标准，用于真空磁控溅射工艺，可以避免水电镀工艺带来的环境污染并保证膜层的色度稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 磁控溅射 香槟 色金靶材 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材，其成份按质量百分比为： Y 0.1%～1.3%, Fe 1.2%～3%, Cr 0.5%～2.5%, In 0.5%～2%, Al 0.2%～1%，其余为Au。
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