[发明专利]光掩模坯、光掩模以及光掩模制造方法

摘要

本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14)，在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时，利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行，然后，利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24)，利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域，得到光掩模。将各层(11)～(14)全部形成之后，进行使用了刻蚀液的刻蚀，所以，不存在颗粒的附着。

主权项

一种光掩模坯，具有透明衬底和配置在所述透明衬底上的掩模层，其特征在于，所述掩模层具有：配置在所述透明衬底上的半透明的相移层；配置在所述相移层上的刻蚀停止层；以及配置在所述刻蚀停止层上的具有遮光性的遮光层，所述刻蚀停止层由含有碳并且能够燃烧的材料构成，并且，由不被对所述遮光层进行刻蚀的遮光层刻蚀液刻蚀的材料形成。