[发明专利]半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁有效
| 申请号： | 201010503408.2 | 申请日： | 2007-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN101947526A | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 尹遥波;琳达·简 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 周文强;李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供使用各种兆声装置，结合选择性的化学制品以从在半导体、医学或其他任何处理环境中使用的处理设备的表面除去亚微米微粒污染物的方法和装置，其中该兆声装置包括兆声槽、扫描兆声板、兆声喷管和兆声扫描波束等。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 组件 部件 精密 清洁 | ||
【主权项】：
一种清洁处理元件的装置，包含：具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件；流体供应组件，该流体供应组件能够向该处理元件的表面供应流体；以及波束组件，该波束组件能够产生高频兆声声波能量波束，其中该高频兆声声波能量波束被应用于该处理元件的表面。
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