[发明专利]具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法无效
| 申请号： | 201010508841.5 | 申请日： | 2010-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN102443824A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 黄自筑;黄诗韵;许晋诚 | 申请（专利权）人： | 慧芳股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/10 | 分类号： | C25D1/10;C25D1/20 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其包含：在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构；在基材与光致抗蚀剂形成一导电薄膜而为一电镀基材；将该电镀基材以电镀手段令表面形成一电镀体后取出；从该电镀基材上剥离该电镀体，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面具有点矩阵光栅结构；通过其上光栅结构产生光学上的干涉效应，人眼即可看出电镀制品的表面呈现不同图案与色彩。 | ||
| 搜索关键词： | 有点 矩阵 光栅 结构 电镀 制品 制法 | ||
【主权项】：
一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，其特征在于，包含以下步骤：在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构，且在点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间；在基材与光致抗蚀剂形成一导电薄膜，而成为一电镀基材；将该电镀基材沉置一电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成一电镀体后取出；从该电镀基材上剥离该电镀体，即为所要的电镀制品，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，其中，该电镀制品的表面的点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间。
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