[发明专利]含三嗪结构抗紫外线辐射分散染料及其制备方法无效
| 申请号： | 201010513158.0 | 申请日： | 2010-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN102002253A | 公开（公告）日： | 2011-04-06 |
| 发明（设计）人： | 赵德峰;孙岩峰;简卫;陈美芬 | 申请（专利权）人： | 杭州吉华江东化工有限公司 |
| 主分类号： | C09B29/085 | 分类号： | C09B29/085;C09B56/00;C09B67/38;D06P1/19;D06P1/18;D06P3/54 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 俞润体 |
| 地址： | 311228 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种抗紫外线辐射的分散染料及其制备方法。为了解决目前服装抗紫外线的方法中存在的不足，本发明提供了一种含三嗪结构抗紫外线辐射分散染料及其制备方法，其通式为(1) |
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| 搜索关键词： | 含三嗪 结构 紫外线 辐射 分散染料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含三嗪结构抗紫外线辐射分散染料，其特征在于：其通式为（1）：![]()
所述的通式（1）中X1选自氢、卤素、硝基或氰基；X2选自氢、卤素或氰基；X3选自氯或硝基；R1、R2选自C1～C2的烷基、～CH2COOR12、～C2H4OCOR13，其中R12、R13分别独立地选自C1～C2的烷基；R3为氢或C1～C2的烷基。
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