[发明专利]彩膜基板的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010520814.X 申请日: 2010-10-21
公开(公告)号: CN102455542A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 林鸿涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02B5/20;G03F7/20;G03F7/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种彩膜基板的制造方法,包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程,形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括:在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层;采用掩膜版,从衬底基板背离黑矩阵的一侧对彩色树脂层进行曝光,形成彩色树脂图案,掩膜版中透光区域的边缘对应于黑矩阵图案的范围内。本发明提供的彩膜基板的制造方法,解决了掩膜版和衬底基板对位误差出现的彩色树脂图案与两相邻黑矩阵之间的重叠部分高度不对称的问题,避免出现漏光的现象。实现彩色树脂图案与黑矩阵无重叠区域,使彩膜基板表面平整,无漏光现象,提高了配向液的印刷效果,以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。
搜索关键词: 彩膜基板 制造 方法
【主权项】:
一种彩膜基板的制造方法,包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程,其特征在于,形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括:在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层;采用掩膜版,从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光,形成所述彩色树脂图案,所述掩膜版中透光区域的边缘对应于所述黑矩阵图案的范围内。
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